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2014-06-16から1日間の記事一覧

東工大、4μmの超薄型DRAMウェハを開発(積層DRAM用)

東工大が300mmウェハの厚さを4μm(μm:1/1000ミリ)まで薄型化する技術を開発した。従来の2Gbit、300mmのDRAMウェハの厚みは775μmとのことなので、実に1/193.75と、ほぼ1/200程度に薄くなっている。 東工大、向こうが透けて見える厚さ4μmのDRAMウェハ http://…